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无尘车间一般至少要采用初、中、高三级过滤器过滤，而这三级过滤器的阻力加起来就有700～800帕左右，无尘车间一般也要采用集中送、回风的方式，以保证维持无尘车间的正负压调节的要求，所以无尘车间的管道阻力一般比普通空调的要多一倍以上。需要克服这些阻力，就要求空气处理机组的送风机有足够的压头，GMP无尘车间，所以无尘车间的空气处理机组的送风机组一般采用后弯机翼型的风机，精密电子无尘车间，或者是无窝壳的风机，才能达到足够高送回风压头。

洁净室中的温湿度控制：

    洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，净化工程，但在满足工艺要求的条件下，净化工程安装，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。

    具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，山东净化工程，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。

    湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产蕞佳温度范围为35—45%。

风淋室维护的要点：

1、定期使用仪器测定设备的各项技术指标，如不符合技术参数要求应及时予以处理。

2、根据实际使用情况，定期将初效金田空气过滤器中的滤料取下清洗。

3、当发现风速变小时应首先检查初效空气过滤器表面是否发黑，若发黑则说明预过滤器容尘较多，净化工程施工，阻力增大，即应拆下初效空气过滤器内的无纺布进行清洗或予以调换。

4、当调换或清洗无纺布后，仍不能提高风速则说明高效空气过滤器已经堵塞，造成阻力增大，则应更换高效空气过滤器。

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