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洁净室中的温湿度控制：

    洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。

    具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。

    湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，PCR核酸检测实验室装修，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，PCR核酸检测实验室，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产蕞佳温度范围为35—45%。

药厂洁净车间，净化车间装修，药厂洁净区分为A，B，C，D

A级区：高风险操作区，如灌装区，PCR核酸检测实验室施工，放置胶塞桶，敞口安瓿瓶，敞口西林瓶的区域及无菌装配线或连接 操作的区域。通常用层流操作台（罩）来维持该区的环境状态。层流系统在其工作区域必须均匀送风， 风速为0.36－－0.54M/S，（指导值）。应有数据证明层流的状态并需要验证。在密闭的隔离操作区或 手套箱内，可使用单向流或较低的风速。

B级区：指无菌配制和灌装等高风险操作A级区所处的背景区域。

C级区和D级区：指生产无菌药品过程中重要的程度较低的洁净操作区。

药厂洁净车间的温度与湿度环境要求控制： 洁净车间的温度和相对湿度应与其生产工艺要求相适应，具体参数见新版GMP标准ABCD等级要求： 洁净操作区的空气温度应为 20－24℃ 洁净操作区的空气相对湿度应为 45％－60％ 。

  无菌室只是相对广泛的概念，其按洁净度可分为30万级、10万级、万级、百级、以及10级.（.超净台一般是经过高xiao空气过滤器正压吹向样品，净化厂房，可以防止样品在操作过程中交叉污染.但如果你的无菌室设计的是百级的，万级净化厂房，那就可以代替超净工作台.如果无菌室设计的是万级或十万级的，而样品要求在百级操作环境下操作.那就不能替代超净台了.

可承建十万级、万级、千级、到百级的各类GMP净化工程。公司拥有一支高素质的工程设计、安装和技术监督队伍，每项工程从设计到施工都紧密配合，严格把握工程的质量关，PCR核酸检测实验室，设计承接不同类型，不同规模，不同净化级别的工业厂房净化系统。

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