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洁净室中的温湿度控制：

    洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。

    具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，GMP车间，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，烟台GMP车间，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。

    湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产蕞佳温度范围为35—45%。

    洁净室主要之作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为洁净室。按照国际惯例，淄博GMP车间，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。

　洁净工程中，双走道是为了达到洁污分明的效果，避免二次污染。专业人员介绍，人员、物品的运作会对室内洁净度有一定的影响，所以来回进出都应严格遵守相关的管理规范，并采取适宜的隔离。

    净化工程中的洁净走廊和污染走廊是手术室的特别布置方式，在手术间、无菌附属间等会设有洁净走廊（内走廊）。污染走廊（非洁净处置通道、外走廊）设置在手术室的外围，是非洁净物品的路线。

    无尘净化车间工程高标准的等级要求，只要大家能够细心的做好每一步，也就没什么问题了。无尘净化车间其应掌握的内容，粒子或菌类危害程度。无尘室内的产品所要求的洁净度。无尘室尘源及其控制。工艺操作对洁净度的影响。洁净度、测定仪器、测定方法和评价方法的知识。净化设备和系统的使用规程，故障排除方法。本无尘室的构造和性能。安全措施，卫生措施。对无尘室工作人员进行训练的内容一般包括如下几个方面。按规定的方法练习脱去个人服装并保管起来。按规定的方法练习穿洁净工作服，济宁GMP车间，按规定的方法练习洗手、烘干，使用无尘室专用纸巾。做不拖足行走的练习，做带进无尘室器材的清洁净化练习。练习使用无尘室的消防器材。

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