工业洁净室设计
在工业洁净室中，制药厂是我们经常遇到的工程设计，qs净化车间，根据GMP对洁净厂房的要求，有几项重要参数应给予重视。
1、洁净度
2、换气次数
一般性空调系统的换气次数每小时只需8~10次，而工业洁净室中的换气次数蕞低级别也要12次，gmp净化车间施工，蕞高的级别则需几百次，显然，换气次数的差别造成风量能耗的巨大差异。设计中，在洁净度准确定位的基础上，要保证足够的换气次数，否则运行结果不达标，洁净室抗干扰能力差，自净能力相应加长等等一系列问题就得不偿失了。
3、静压差
不同级别的洁净室与非洁净室之间不能小于5Pa，洁净室与室外不能小于10Pa等等一系列要求。控制静压差的方法，主要是供给一定的正压风量，设计常采用的正压装置为余压阀、压差式电动风量调节器和回风口处装设空气阻尼层。近年来，设计中常采用不设正压装置而在初调试中，使送风量大于回风量和排风量的方式，并相应配设自动控制系统也能达到同样效果。
光学微电子净化工程-洁净车间技术解决方案：
光学微电子净化工程之定义为将一定空间范围内之空气中的微尘粒子、有害空气等之污染物排除，并将室内之温湿度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音震动及照明、静电控制在某一需求范围内，临沭净化车间，而所给于特别设计之密闭空间。
光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室，已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近几年来，净化车间工程，由于技术之创新发展，对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切，如超大型积体电路之研究制造，已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目，而我公司的设计理念及施工技术在行业中则处于先导地位。
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