山东晴朗净化科技有限公司

洁净室地面设计应符合下列要求:

1 洁净室地面应满足生产工艺要求。

2 洁净室地面应平整，耐磨、易清洗，不易积聚静电，避免眩光，不开裂等。

3 地面垫层宜配筋，潮湿地区垫层应做防潮构造。

洁净厂房技术夹层的墙壁和顶棚表面应平整、光滑，位于地下的技术夹层应采取防水或防潮、防霉措施。

公司承接全国各地各种行业洁净厂房、空气净化工程、制药车间、无尘净化室、生物工程、洁净手术室、无菌实验室、装配车间、提取车间、灌装车间的设计及安装。

洁净室中的温湿度控制：

    洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。

    具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，gmp净化车间，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。

    湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，gmp车间 净化空调，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产蕞佳温度范围为35—45%。

质量管理、卫生管理负责人应具有食品包装容器及材料质量和卫生管理的实践经验，有能力对产品生产过程中出现的问题作出正确处理。

技术人员应掌握专业技术知识，gmp净化车间装修，净化工程实验室，并具有一定的质量安全管理知识。

生产操作人员应熟悉自己的岗位职责，莱城gmp净化车间，具有基础理论知识和实际操作技能，净化工程安装，能熟练地按工艺文件进行生产操作。

公司承接全国各地各种行业洁净厂房、空气净化工程、制药车间、无尘净化室、生物工程、洁净手术室、无菌实验室、装配车间、提取车间、灌装车间的设计及安装。 可承建十万级、万级、千级、到百级的各类GMP净化工程。

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